ICP等离子刻蚀机
-
298/人使用者
-
6908/次机时次数
-
7802/小时总时长
-
4/次送样次数
-
931/人收藏者
-
收费标准
机时580元/小时送样详见检测项目 -
设备型号
GSE200Plus -
当前状态
-
管理员
张锐,校外联络张老师 15889778568 -
放置地点
校本部检测中心二层200
- 仪器信息
- 预约资源
- 检测项目
- 附件下载
- 公告
- 同类仪器
名称
ICP等离子刻蚀机
资产编号
13006108
型号
GSE200Plus
规格
1
产地
中国
厂家
北京北方华创微电子装备有限公司
所属品牌
NMC
出产日期
购买日期
2013-06-20
所属单位
微纳平台
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
张锐
联系电话
15889778568
联系邮箱
zhangr@sustech.edu.cn
放置地点
校本部检测中心二层200
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
设备配置氟基工艺气体（SF6，CHF3）、氯基工艺气体（BCl3，Cl2）、以及Ar和O2；
可用于刻蚀金属及其化合物（如Al、Al2O3、Cr、Ti、TiN、GaN、AlGaN、GaAs、Ta、TaN等），硅及其化合物（如SiN、SiO2、SiC等），有机物（如光刻胶、PMMA、ARC等）等材料。
设备配置全自动传输系统以及全自动化控制软件，操作简便；
可独立控制的双射频电源（硬件功率可达1000W），可实现等离子体的密度和能量独立控制，配合工艺腔体有效温控及样品的双冷却方式（背面He及制冷液冷却卡盘），提升工艺可控性；设备可在极低的压力（2-3mt）下工艺，非常有利于极微小尺寸图形的刻蚀，并保持整个工艺过程的清洁。样品传输腔进行压力切换，可保持工艺腔一直处于真空状态，有效防止环境中颗粒及水汽等到达工艺腔体。
可用于刻蚀金属及其化合物（如Al、Al2O3、Cr、Ti、TiN、GaN、AlGaN、GaAs、Ta、TaN等），硅及其化合物（如SiN、SiO2、SiC等），有机物（如光刻胶、PMMA、ARC等）等材料。
设备配置全自动传输系统以及全自动化控制软件，操作简便；
可独立控制的双射频电源（硬件功率可达1000W），可实现等离子体的密度和能量独立控制，配合工艺腔体有效温控及样品的双冷却方式（背面He及制冷液冷却卡盘），提升工艺可控性；设备可在极低的压力（2-3mt）下工艺，非常有利于极微小尺寸图形的刻蚀，并保持整个工艺过程的清洁。样品传输腔进行压力切换，可保持工艺腔一直处于真空状态，有效防止环境中颗粒及水汽等到达工艺腔体。
主要功能及特色
该设备可广泛应用于电子元器件制程、第三代半导体器件研发制造、光波导、光栅器件、微流控、纳米压印等领域中的等离子刻蚀工艺。
样本检测注意事项
最大刻蚀深度不超过100um；
不可离子轰击刻蚀金；
样品不能是粉末或液体；
样品高度不大于1cm；
孔图形最大刻蚀深宽比为2：1左右。
不可离子轰击刻蚀金；
样品不能是粉末或液体；
样品高度不大于1cm；
孔图形最大刻蚀深宽比为2：1左右。
设备使用相关说明
使用者须保证使用的设备不会直接或者间接的用于以下行为：
一、核爆炸性活动。
二、未受核保障监督的核活动。
三、与设备相关的安全和非安全防护的核活动
1、辐射特殊核或原料的化学处理；
2、生产重水；
3、分离同位素放射源和特定核材料;
4、制造含钚核反应堆燃料。
四、火箭系统 (包括弹道导弹、运载火箭、探空火箭) 和无人驾驶飞行器 (包括巡航导弹、目标无人机、无人侦察机) 的最终用途。
五、在世界范围内或由任何国家或目的地设计、开发、生产、储存或使用化学或生物武器。
六、海上核动力推进。
一、核爆炸性活动。
二、未受核保障监督的核活动。
三、与设备相关的安全和非安全防护的核活动
1、辐射特殊核或原料的化学处理；
2、生产重水；
3、分离同位素放射源和特定核材料;
4、制造含钚核反应堆燃料。
四、火箭系统 (包括弹道导弹、运载火箭、探空火箭) 和无人驾驶飞行器 (包括巡航导弹、目标无人机、无人侦察机) 的最终用途。
五、在世界范围内或由任何国家或目的地设计、开发、生产、储存或使用化学或生物武器。
六、海上核动力推进。
预约资源
检测项目
附件下载
公告
同类仪器
