LPCVD

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收费标准

机时
350元/小时

设备型号

L4111Ⅱ-4/ZM

当前状态

管理员

张锐 15889778568

放置地点

校本部检测中心二层200
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名称

LPCVD

资产编号

16029248S

型号

L4111Ⅱ-4/ZM

规格

1

产地

中国

厂家

北京北方华创微电子装备有限公司

所属品牌

北方华创

出产日期

购买日期

2016-09-01

所属单位

微纳平台

使用性质

科研

所属分类

资产负责人

张锐

联系电话

15889778568

联系邮箱

zhangr@sustech.edu.cn

放置地点

校本部检测中心二层200
  • 主要规格&技术指标
  • 主要功能及特色
  • 样本检测注意事项
  • 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
设备配置3根独立1.5米长度、200mm直径卧式独立炉管,可在高温条件下沉积高质量薄膜,广泛应用于芯片制造行业。
设备专管专用,3根炉管分别沉积如下专门的膜层:
1、 TEOS:使用TEOS(正硅酸乙脂)高温分解沉积;
2、 SiN:使用SiH2Cl2和NH3高温反应沉积;
3、 Poly: 使用SiH4高温分解沉积。
主要功能及特色
可广泛应用于电子元器件制程、第三代半导体器件研发制造、光波导等领域中进行高质量薄膜沉积工艺。
样本检测注意事项
样品需经过充分的烘烤去除水分,只接受已经进行充分烘烤的石英材质夹具。
含金属的样品不得进入炉管进行工艺。
目前只能提供4英寸和6英寸标准的石英舟。
设备使用相关说明
使用者须保证使用的设备不会直接或者间接的用于以下行为:
一、核爆炸性活动。
二、未受核保障监督的核活动。
三、与设备相关的安全和非安全防护的核活动
1、辐射特殊核或原料的化学处理;
2、生产重水;
3、分离同位素放射源和特定核材料;
4、制造含钚核反应堆燃料。
四、火箭系统 (包括弹道导弹、运载火箭、探空火箭) 和无人驾驶飞行器 (包括巡航导弹、目标无人机、无人侦察机) 的最终用途。
五、在世界范围内或由任何国家或目的地设计、开发、生产、储存或使用化学或生物武器。
六、海上核动力推进。
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