激光脉冲沉积系统(PLD)

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收费标准

机时
800元/小时

设备型号

定制

当前状态

管理员

韩松柏,王晓飞 13821266513

放置地点

校本部创园9栋二层201
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名称

激光脉冲沉积系统(PLD)

资产编号

S202647201

型号

定制

规格

16英寸

产地

中国

厂家

深圳市矩阵多元科技有限公司

所属品牌

矩阵多元

出产日期

购买日期

2020-12-15

所属单位

前沿与交叉科学研究院

使用性质

科研

所属分类

资产负责人

王晓飞

联系电话

13821266513

联系邮箱

wangxf6@sustech.edu.cn

放置地点

校本部创园9栋二层201
  • 主要规格&技术指标
  • 主要功能及特色
  • 样本检测注意事项
  • 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
1.PLD主腔室:生长室腔体材质为SS304;直径16英寸;CF法兰;包括:观察窗口;激光入射窗口;样品台接口;靶台接口;分子泵抽气口;前级抽气口;真空计接口;气体入口;过渡室接口;传送杆接口;预留接口(1X DN 160CF;1X DN 100CF;1X DN 63CF;1X DN 40CF;1X DN 16CF);浦发分子泵(抽速700 L/s)和涡旋干泵(抽速4.1 L/s)。1套Inficon全量程真空计皮拉尼复合规;量程5x10-9 mbar – 1 atm;1套Inficon薄膜真空计1x10-4 mbar – 1 mbar。VAT手动闸板阀。工作气路3路;MKS质量流量计3套;截止阀5套。衬底加热台可作四维移动;X/Y:±7.5 mm;Z:100 mm;phi:≤20 RPM。靶材尺寸及数量:φ1英寸×6个;靶基距行程:40-90 mm;靶材自转速度0~20 RPM。 2.PLD控制系统:具备成熟软件;软件能控制加热温度;升温速率;能软件控制靶台的自转;公转;能控制分子泵;机械泵及相关阀门;能软件控制气体流量计;读取气压值;并对激光器进行控制等;可实现电脑界面操作;程序智能控制;自动参数记录;通过PLC以及工业控制计算机进行软件控制;全方位保证系统稳定可靠运行;操作过程能够保存;方便同条件下实验重复以及问题追溯;可记录各账户登录及操作历史;软件具有报警;安全互锁和紧急保护功能;并可追溯报警日志。 3.激光光路系统:铝型材光路支架及亚克力玻璃保护罩;CF63石英窗口;4个两英寸;反射率(248 nm)>99%的45度反射镜(CVI公司)及配套反射镜支架;1个两英寸;反射率(248 nm)>98%的22.5度反射镜(CVI公司);1个两英寸;焦距f=500 mm的聚焦透镜(Thorlabs公司);支架及配套滑轨。4.激光器系统:波长:248nm;最大脉冲能量:750mJ;最大脉冲频率:50Hz;功率:33 W;脉冲宽度:25ns;光斑24×10 mm2;Coherent Compex 205。
主要功能及特色
主要用于高质量新型薄膜电池用正极材料/负极材料;先进全固态电解质薄膜的制备以及相关功能薄膜材料的研发。
样本检测注意事项
直径2英寸;厚度1毫米以下的圆片
设备使用相关说明
1、此设备连接了超高真空互联管道,如需使用,可到该管道的设备链接进行预约。
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