桌面真空镀膜机
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收费标准
机时0元/小时 -
设备型号
Korvus Technolgy、HEX -
当前状态
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管理员
苗埻,潘子喻 18917520665 -
放置地点
校本部崇文智园3号楼五层515
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
- 公告
- 同类仪器
名称
桌面真空镀膜机
资产编号
15023569
型号
Korvus Technolgy、HEX
规格
请补充
产地
厂家
所属品牌
出产日期
购买日期
所属单位
深港微电子学院
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
于洪宇
联系电话
18917520665
联系邮箱
chenk6@sustech.edu.cn
放置地点
校本部崇文智园3号楼五层515
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
- 备注
主要规格&技术指标
1. 快速拆换的六块独立板面形成的腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)
2. 系统节约实验室空间，占地约1m2，腔体尺寸：65 cm * 60 cm * 70 cm，重约50 kg
3. 快速 (20分钟内达到 5*10-6Torr)
4. 4英寸及以下尺寸样品台 (可选配 2-20 rpm旋转、500℃加热，水冷、直流偏压)
5. 四种溅射源：磁控溅射；电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源
6. 可集成膜厚测量功能，手套箱系统，以及各种定制功能
7. 自动操作软件控制（选配）
8. 可配备快速进样腔（选配）
9. 原位监测选件：热成像，原位等离子体谱，石英晶振
2. 系统节约实验室空间，占地约1m2，腔体尺寸：65 cm * 60 cm * 70 cm，重约50 kg
3. 快速 (20分钟内达到 5*10-6Torr)
4. 4英寸及以下尺寸样品台 (可选配 2-20 rpm旋转、500℃加热，水冷、直流偏压)
5. 四种溅射源：磁控溅射；电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源
6. 可集成膜厚测量功能，手套箱系统，以及各种定制功能
7. 自动操作软件控制（选配）
8. 可配备快速进样腔（选配）
9. 原位监测选件：热成像，原位等离子体谱，石英晶振
主要功能及特色
1.模块化设计，可根据用户应用需求更换，真空腔体也可以模块化组合
2.兼容磁控溅射，电子束蒸发，热蒸发多种沉积技术
3.适用于科研训练和新型薄膜沉积
4.可与手套箱集成
5.占地面积小
2.兼容磁控溅射，电子束蒸发，热蒸发多种沉积技术
3.适用于科研训练和新型薄膜沉积
4.可与手套箱集成
5.占地面积小
样本检测注意事项
请补充
设备使用相关说明
请补充
备注
化学催化
电极薄膜制备
金属半导体薄膜制备
磁性薄膜制备
微纳米器件
光学器件
电极薄膜制备
金属半导体薄膜制备
磁性薄膜制备
微纳米器件
光学器件
预约资源
附件下载
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