无掩膜激光直写光刻机
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97/人使用者
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2297/次机时次数
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2847/小时总时长
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0/次送样次数
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303/人收藏者
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收费标准
机时280元/小时 -
设备型号
MicroWriter Ml3 -
当前状态
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管理员
王尧,严凤玲,张旭 17863130593 -
放置地点
校本部检测中心二层200
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
- 公告
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名称
无掩膜激光直写光刻机
资产编号
S2026781
型号
MicroWriter Ml3
规格
MicroWriter Ml3
产地
英国
厂家
Durham Magneto Optics Ltd
所属品牌
出产日期
购买日期
2020-12-16
所属单位
微纳平台
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
张旭 严凤玲
联系电话
17863130593
联系邮箱
yanfl@mail.sustech.edu.cn
放置地点
校本部检测中心二层200
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
- 备注
主要规格&技术指标
1.1 直写性能：
无需物理掩膜板；
直写分辨率：0.6μm，1.0μm，2.0μm，5.0μm，且4种分辨率模式可通过软件自动切换；
最快直写速度（mm2/min）：17@0.6μm，50@1μm，120@2μm， 180@5μm；
对准对准显微镜镜头：x3, x5, x10, x20 自动切换，多层套刻精度：±0.5um；
最小栅格精度：100nm
样品台最小步长： 50nm
最小栅格精度：100nm
光学轮廓Z分辨率: 100nm
样品表面自动对焦: 是
自动晶片检查工具：有
温控样品腔室：有
虚拟模板校准工具：有
气动减震光学平台：（机内配置）
灰度直写等级：256级;
1.2 直写光源
光源波长：385nm；
光源功率：1.5W；
1.3 样品加工区
最大基片尺寸：230mm×230mm；
最大基片厚度：15mm；
最大加工区域：195mm×195mm；
配备X、Y、Z三维直流线性位移电机，步进精度50nm；
有温控样品腔室；配备X、Y、Z三维直流线性位移电机，步进精度50nm；
有温控样品腔室。
无需物理掩膜板；
直写分辨率：0.6μm，1.0μm，2.0μm，5.0μm，且4种分辨率模式可通过软件自动切换；
最快直写速度（mm2/min）：17@0.6μm，50@1μm，120@2μm， 180@5μm；
对准对准显微镜镜头：x3, x5, x10, x20 自动切换，多层套刻精度：±0.5um；
最小栅格精度：100nm
样品台最小步长： 50nm
最小栅格精度：100nm
光学轮廓Z分辨率: 100nm
样品表面自动对焦: 是
自动晶片检查工具：有
温控样品腔室：有
虚拟模板校准工具：有
气动减震光学平台：（机内配置）
灰度直写等级：256级;
1.2 直写光源
光源波长：385nm；
光源功率：1.5W；
1.3 样品加工区
最大基片尺寸：230mm×230mm；
最大基片厚度：15mm；
最大加工区域：195mm×195mm；
配备X、Y、Z三维直流线性位移电机，步进精度50nm；
有温控样品腔室；配备X、Y、Z三维直流线性位移电机，步进精度50nm；
有温控样品腔室。
主要功能及特色
1
样本检测注意事项
1
设备使用相关说明
使用者须保证使用的设备不会直接或者间接的用于以下行为：
一、核爆炸性活动。
二、未受核保障监督的核活动。
三、与设备相关的安全和非安全防护的核活动
1、辐射特殊核或原料的化学处理；
2、生产重水；
3、分离同位素放射源和特定核材料;
4、制造含钚核反应堆燃料。
四、火箭系统 (包括弹道导弹、运载火箭、探空火箭) 和无人驾驶飞行器 (包括巡航导弹、目标无人机、无人侦察机) 的最终用途。
五、在世界范围内或由任何国家或目的地设计、开发、生产、储存或使用化学或生物武器。
六、海上核动力推进。
一、核爆炸性活动。
二、未受核保障监督的核活动。
三、与设备相关的安全和非安全防护的核活动
1、辐射特殊核或原料的化学处理；
2、生产重水；
3、分离同位素放射源和特定核材料;
4、制造含钚核反应堆燃料。
四、火箭系统 (包括弹道导弹、运载火箭、探空火箭) 和无人驾驶飞行器 (包括巡航导弹、目标无人机、无人侦察机) 的最终用途。
五、在世界范围内或由任何国家或目的地设计、开发、生产、储存或使用化学或生物武器。
六、海上核动力推进。
备注
禁止放入带液体或挥发性物质的样品
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