激光脉冲沉积系统（PLD）
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收费标准
机时800元/小时 -
设备型号
定制 -
当前状态
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管理员
韩松柏,王晓飞 13821266513 -
放置地点
校本部创园9栋二层201
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
- 公告
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名称
激光脉冲沉积系统（PLD）
资产编号
S202647201
型号
定制
规格
16英寸
产地
中国
厂家
深圳市矩阵多元科技有限公司
所属品牌
矩阵多元
出产日期
购买日期
2020-12-15
所属单位
前沿与交叉科学研究院
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
王晓飞
联系电话
13821266513
联系邮箱
wangxf6@sustech.edu.cn
放置地点
校本部创园9栋二层201
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
1.PLD主腔室：生长室腔体材质为SS304;直径16英寸;CF法兰;包括：观察窗口;激光入射窗口;样品台接口;靶台接口;分子泵抽气口;前级抽气口;真空计接口;气体入口;过渡室接口;传送杆接口;预留接口（1X DN 160CF;1X DN 100CF;1X DN 63CF;1X DN 40CF;1X DN 16CF）;浦发分子泵(抽速700 L/s)和涡旋干泵(抽速4.1 L/s)。1套Inficon全量程真空计皮拉尼复合规;量程5x10-9 mbar – 1 atm;1套Inficon薄膜真空计1x10-4 mbar – 1 mbar。VAT手动闸板阀。工作气路3路;MKS质量流量计3套;截止阀5套。衬底加热台可作四维移动;X/Y：±7.5 mm;Z：100 mm;phi：≤20 RPM。靶材尺寸及数量：φ1英寸×6个;靶基距行程：40-90 mm;靶材自转速度0～20 RPM。 2.PLD控制系统：具备成熟软件;软件能控制加热温度;升温速率;能软件控制靶台的自转;公转;能控制分子泵;机械泵及相关阀门;能软件控制气体流量计;读取气压值;并对激光器进行控制等;可实现电脑界面操作;程序智能控制;自动参数记录;通过PLC以及工业控制计算机进行软件控制;全方位保证系统稳定可靠运行;操作过程能够保存;方便同条件下实验重复以及问题追溯;可记录各账户登录及操作历史;软件具有报警;安全互锁和紧急保护功能;并可追溯报警日志。 3.激光光路系统：铝型材光路支架及亚克力玻璃保护罩;CF63石英窗口;4个两英寸;反射率（248 nm）＞99%的45度反射镜（CVI公司）及配套反射镜支架;1个两英寸;反射率（248 nm）＞98%的22.5度反射镜（CVI公司）;1个两英寸;焦距f=500 mm的聚焦透镜（Thorlabs公司）;支架及配套滑轨。4.激光器系统：波长：248nm;最大脉冲能量：750mJ;最大脉冲频率：50Hz;功率：33 W;脉冲宽度：25ns;光斑24×10 mm2;Coherent Compex 205。
主要功能及特色
主要用于高质量新型薄膜电池用正极材料/负极材料;先进全固态电解质薄膜的制备以及相关功能薄膜材料的研发。
样本检测注意事项
直径2英寸;厚度1毫米以下的圆片
设备使用相关说明
1、此设备连接了超高真空互联管道，如需使用，可到该管道的设备链接进行预约。
预约资源
附件下载
公告
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