磁控溅射
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16/人使用者
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159/次总次数
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1167/小时总时长
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14/人收藏者
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收费标准
机时300元/小时 -
设备型号
沈阳科仪JGP450 -
当前状态
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管理员
谢剑宇,马德江 -
放置地点
校本部理学院楼
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
- 公告
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名称
磁控溅射
资产编号
S2017322
型号
沈阳科仪JGP450
规格
产地
中国
厂家
沈阳科仪
所属品牌
出产日期
购买日期
所属单位
物理系
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
王善民
联系电话
联系邮箱
放置地点
校本部理学院楼
- 主要规格&技术指标
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
系统的主要组成及技术指标：
极限真空度：≤6.0x10-5 Pa (经烘烤除气后)；
系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，30分钟可达到4.0x10-4 Pa；
停泵关机12小时后真空度：≤5Pa；
1 、溅射真空室组件
圆筒型真空室尺寸约Ф450mm x350mm，电动上开盖结构，可内烘烤100～150℃，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行电化学抛光国内首家钝化处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封，腔体侧壁必要位置开孔设置法兰安装真空规、电极、各种真空阀门；
2 、磁控溅射靶组件：3套
2.1 、靶材尺寸：2英寸，分布在同一个分度圆周上，各靶心于法兰中心夹角120°；
2.2 、永磁靶：射频溅射与直流溅射兼容，靶内有水冷；
2.3 、挡板组件：1套；
2.4 、做共溅射，配合单基片加热台使用时，三个靶可共同折向上面的样品中心，靶与样品距离90～110mm可调。
3 、单基片加热台组件
3.1 、基片尺寸：最大可放置Φ50基片,1片；
3.2 、基片采用进口电阻丝加热，加热炉加热最高温度 600°C±1°C，由热电偶闭环反馈控制；
3.3 、基片可连续回转，转速5～10转/分；
3.4 、基片可以加负偏压（辅助沉积）；
3.5 、样品挡板组件：1套；
"
极限真空度：≤6.0x10-5 Pa (经烘烤除气后)；
系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，30分钟可达到4.0x10-4 Pa；
停泵关机12小时后真空度：≤5Pa；
1 、溅射真空室组件
圆筒型真空室尺寸约Ф450mm x350mm，电动上开盖结构，可内烘烤100～150℃，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行电化学抛光国内首家钝化处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封，腔体侧壁必要位置开孔设置法兰安装真空规、电极、各种真空阀门；
2 、磁控溅射靶组件：3套
2.1 、靶材尺寸：2英寸，分布在同一个分度圆周上，各靶心于法兰中心夹角120°；
2.2 、永磁靶：射频溅射与直流溅射兼容，靶内有水冷；
2.3 、挡板组件：1套；
2.4 、做共溅射，配合单基片加热台使用时，三个靶可共同折向上面的样品中心，靶与样品距离90～110mm可调。
3 、单基片加热台组件
3.1 、基片尺寸：最大可放置Φ50基片,1片；
3.2 、基片采用进口电阻丝加热，加热炉加热最高温度 600°C±1°C，由热电偶闭环反馈控制；
3.3 、基片可连续回转，转速5～10转/分；
3.4 、基片可以加负偏压（辅助沉积）；
3.5 、样品挡板组件：1套；
"
样本检测注意事项
"系统主要功能为开发二维金属、氧化物、
氮化物等材料生长、镀膜及金刚石端面的浅表材料改性等；"
"镀膜（自备靶材）：
单靶溅射：200元/样品起
多靶共溅射：300元/样品起
未提供靶材：
根据镀膜材料，500元/小时起"
氮化物等材料生长、镀膜及金刚石端面的浅表材料改性等；"
"镀膜（自备靶材）：
单靶溅射：200元/样品起
多靶共溅射：300元/样品起
未提供靶材：
根据镀膜材料，500元/小时起"
设备使用相关说明
固体基底镀膜
按使用时间计算
校外：500元/小时
校内：300元/小时
单位内：200元/小时
按使用时间计算
校外：500元/小时
校内：300元/小时
单位内：200元/小时
预约资源
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