光刻机 （紫外光刻机
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22/人使用者
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337/次机时次数
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369/小时总时长
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0/次送样次数
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62/人收藏者
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收费标准
机时300元/小时 -
设备型号
ABM/6/350/NUV /DCCD/M -
当前状态
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管理员
陈英 88015941 -
放置地点
校本部理学院楼五层P5110
- 仪器信息
- 预约资源
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- 公告
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名称
光刻机 （紫外光刻机
资产编号
14008647
型号
ABM/6/350/NUV /DCCD/M
规格
xxx
产地
中国
厂家
xxxx
所属品牌
xx
出产日期
购买日期
2014-05-13
所属单位
物理系
使用性质
科研
所属分类
XRD
资产负责人
陈英
联系电话
88015941
联系邮箱
放置地点
校本部理学院楼五层P5110
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
- 备注
主要规格&技术指标
光强均匀性Beam Uniformity:： <±1% over 2” 区域 <±2% over 4” 区域
支持接近式曝光，特征尺寸CD： 对准精度±1um--±2um（Depends on user） 支持真空、接近式、接触式曝光 支持恒定光强或恒定功率模式
支持接近式曝光，特征尺寸CD： 对准精度±1um--±2um（Depends on user） 支持真空、接近式、接触式曝光 支持恒定光强或恒定功率模式
主要功能及特色
应用于半导体光刻工艺制程，光波导，光栅，微机电MEMS，LD,二极管芯片，发光二极体（LED）芯片制造，显示面板LCD，光电器件，纳米压印以及电子封装等诸多领域
样本检测注意事项
先联系设备管理员确认是否可预约设备
设备使用相关说明
需严格遵守设备预约使用规定
备注
无
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