原子层沉积系统
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1/人使用者
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2/小时总时长
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5/人收藏者
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收费标准
机时300元/小时 -
设备型号
E200SPG -
当前状态
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管理员
陈荣 15342560422 -
放置地点
校本部创园9栋二层203
- 仪器信息
- 预约资源
- 检测项目
- 附件下载
- 公告
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名称
原子层沉积系统
资产编号
S2117220
型号
E200SPG
规格
"工艺温度：温度范围：RT~400°C （可定制） 前驱体路数：最大支持6路前驱体气路，包含固、液态前驱体源瓶 加热系统：可加热温度范围：RT~150℃ 反应物路数：支持2路反应物气路（可定制） 载气：标准：N2, MFC 流量控制（可定制） 等离子体系统：支持4路等离子体气体（可定制） 射频功率：0~1000W 压力监测：双薄膜规组合（耐腐蚀)，0.005Torr - 1000Torr 本底真空度：<5x10-3 Torr 高温加热模块：独立的源瓶加热模块，可支持RT~200℃ "
产地
中国
厂家
深圳市原速科技有限公司
所属品牌
出产日期
购买日期
2021-01-01
所属单位
前沿与交叉科学研究院
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
陈荣
联系电话
15342560422
联系邮箱
chenr@mail.sustech.edu.cn
放置地点
校本部创园9栋二层203
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
"①可实现材料分体包覆、薄膜生长制备；②集成手套箱系统；③可配合搭载于小型真空互联平台；④配备6路前驱体源、2路反应物；⑤自动开关腔门（喷淋进气方式）；⑥配备臭氧系统；⑦配备热陷系统；⑧配备等离子体系统
可沉积薄膜种类和应用场景包括：
• High-K介电材料 (A,O, H1O, ZrO PrA1Q, Ta, 0s. 1a,0);
• 金屬互联结构 (Cu, WN, TaN, Ru, In);
• 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO, V,0g):
• 生物医学涂层 (TiN, ZIN, TiAIN, AITIN);
•金厲(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni;
• 压电层 (ZnO, AIN, ZnS);
• 透明电学导体 (ZnO:Al, ITO);
• 光子晶体(ZnO,ZnSIMn, Ti0, Ta,N.); 等"
可沉积薄膜种类和应用场景包括：
• High-K介电材料 (A,O, H1O, ZrO PrA1Q, Ta, 0s. 1a,0);
• 金屬互联结构 (Cu, WN, TaN, Ru, In);
• 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO, V,0g):
• 生物医学涂层 (TiN, ZIN, TiAIN, AITIN);
•金厲(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni;
• 压电层 (ZnO, AIN, ZnS);
• 透明电学导体 (ZnO:Al, ITO);
• 光子晶体(ZnO,ZnSIMn, Ti0, Ta,N.); 等"
主要功能及特色
离子增强型原子层沉积(PEALD)系统，可在硅片、玻璃表面、三维物体、>3nm的纳米材料粉末颗粒表面实现全方位均匀材料包覆，主要为电化学平台及能源领域(如三维全固态锂电池、纳米结构光电极、表面钝化和敏化、能带调控、燃料电池、光电化学分解水等)的应用提供服务，并实现电池材料(正极材料、负极材料、电解质材料)及的原位制备、改性处理、表面包覆等研发以及薄膜类器件的制备使用。
样本检测注意事项
可做材料：ZnO, GaO, HfO2, Al2O3, ZrO
设备使用相关说明
1小时起约，首次使用需培训（3小时，可以做样品）；校外用户500元/小时
预约资源
检测项目
附件下载
公告
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