磁控溅射镀膜系统
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3/人使用者
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60/次总次数
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763/小时总时长
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12/人收藏者
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收费标准
机时400元/小时 -
设备型号
定制 -
当前状态
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管理员
韩松柏,王晓飞,胡登砚,胡登砚 13821266513 -
放置地点
校本部创园9栋二层201
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
- 公告
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名称
磁控溅射镀膜系统
资产编号
S2026472
型号
定制
规格
16英寸
产地
中国
厂家
深圳市矩阵多元科技有限公司
所属品牌
矩阵多元
出产日期
购买日期
2020-12-15
所属单位
前沿与交叉科学研究院
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
王晓飞
联系电话
13821266513
联系邮箱
wangxf6@sustech.edu.cn
放置地点
校本部创园9栋二层201
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
1;磁控溅射生长室：生长室腔体材质SS304;直径18英寸;CF法兰;包括：观察窗窗口;样品台接口;靶台接口;分子泵抽气口;前级抽气口;真空计接口;气体入口;过渡室接口;传送杆接口;预留接口（1X DN 160CF;1X DN 100CF;1X DN 63CF ;1X DN 40CF）;Pfeiffer分子泵(抽速700 L/s)和涡旋干泵(抽速4.1 L/s)。1套Inficon全量程真空计皮拉尼复合规;量程5x10-9 mbar – 1 atm;1套Inficon薄膜真空计1x10-4 mbar – 1 mbar。VAT手动闸板阀隔离。工作气路3路;MKS质量流量计3套;截止阀8套;衬底加热台可作二维移动;Z：100 mm;phi：≤20 RPM;精度0.1°;转速不均匀性≤0.1转/分钟;加热台前备有挡板。靶面到基片垂直距离35～125 mm可调;使用K型热偶测量加热温度。靶台Z移动行程：100 mm;靶枪品牌TORUS- Mag Keeper Magnetrons;靶枪数量：4套（1套强磁场靶枪和3套标准磁场靶枪）;可装载2英寸靶材;靶枪电源：直流 2台;500 W;AE MDX 500;射频 2台;300 W;13.56 MHz;AE Cesar 133品牌。2.膜厚仪：膜厚探头1个：石英晶体探头;标准接口CF35。
主要功能及特色
主要用于高质量新型薄膜电池用正极材料/负极材料;先进全固态电解质薄膜的制备以及相关功能薄膜材料的研发。
样本检测注意事项
直径2英寸;厚度1毫米以下的圆片
设备使用相关说明
1、根据衬底不同，价格略有波动。
2、预约时请严格按照校内外人员选择设备部件，如果错选将取消预约。
3、此设备连接了超高真空互联管道，如需使用，可到该管道的设备链接进行预约。
2、预约时请严格按照校内外人员选择设备部件，如果错选将取消预约。
3、此设备连接了超高真空互联管道，如需使用，可到该管道的设备链接进行预约。
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